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27.03Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme (IPMS) Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme (IPMS)
Individuelle Silizium-Chips aus Sachsen zur Materialcharakterisierung für gedruckte Elektronik
Wie leistungsfähig sind neue Materialien? Führt eine Änderung der Eigenschaften zu einer besseren Leitfähigkeit? Am Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme IPMS werden dafür ausgelegte Silizium-Substrate entwickelt und gefertigt. Damit wird...